鍍膜材料有很多用途，在我們生活中也經(jīng)常出現(xiàn)，下面我們來(lái)看看吧!

　　鍍膜材料一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）形成薄膜。

　　氟化物

　　氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鎂MgF2，氟化鑭LaF3，氟化釔YF3，氟化鐿YbF3，氟化鉺ErF3等高純氟化物。

　　其它化合物

　　硫化鋅ZnS，硒化鋅ZnSe，氮化鈦TiN，碳化硅SiC，鈦酸鑭LaTiO3，鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。

　　金屬鍍膜材料

　　高純鋁Al，高純銅Cu，高純鈦Ti，高純硅Si，高純金Au，高純銀Ag，高純銦In，高純鎂Mg，高純鋅Zn，高純鉑Pt，高純鍺Ge，高純鎳Ni,高純鉭TA，金鍺合金AuGe，金鎳合金AuNi，鎳鉻合金NiCr，鈦鋁合金TiAl，銅銦鎵合金CuInGa，銅銦鎵硒合金CuInGaSe，鋅鋁合金ZnAl，鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。

　　非導(dǎo)電樣品絕緣電阻大，在電子束的接連掃描下，樣品外表逐步積累負(fù)電荷，構(gòu)成相當(dāng)高的負(fù)電場(chǎng)，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不安穩(wěn)，并隨機(jī)偏轉(zhuǎn)二次電子軌道，影響探測(cè)器接收，構(gòu)成圖畫(huà)晃動(dòng)、亮度突變、呈現(xiàn)無(wú)規(guī)則的明暗條紋，這就是所謂的“荷電效應(yīng)”，也稱“充電效應(yīng)”。一般鍍一層導(dǎo)電薄膜可以進(jìn)步樣品的導(dǎo)電性，外表的負(fù)電荷通過(guò)導(dǎo)電膜釋放入地，消除荷電現(xiàn)象。電荷釋放的條件是膜層應(yīng)該與金屬樣品臺(tái)相連接，構(gòu)成導(dǎo)電通道。接連的導(dǎo)電膜也可以進(jìn)步樣品的導(dǎo)熱性，減小熱損害。現(xiàn)在實(shí)驗(yàn)室常用的鍍膜技術(shù)為真空蒸發(fā)和離子濺射。