真空技術(shù)也屬于化學(xué)的一種，通過(guò)傳輸介質(zhì)形成真空鍍膜加工技術(shù)。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供了一種制備薄膜的新工藝。

真空鍍膜采用磁控離子濺射、多弧離子鍍等先進(jìn)的綠色真空鍍膜技術(shù)。其基本原理是:在真空室中，利用電弧(或輝光)放電產(chǎn)生的能量直接蒸發(fā)(或?yàn)R射)和電離目標(biāo)(金屬或鈦合金等)產(chǎn)生金屬離子。事實(shí)上，真空鍍膜技術(shù)和光學(xué)鍍膜技術(shù)有點(diǎn)不同，對(duì)吧?光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))膜的過(guò)程。光學(xué)零件表面涂層的目的是降低或增加對(duì)光線的反射、分裂、分色、濾波和偏振的要求。真空鍍膜是指在高真空狀態(tài)下加熱金屬或非金屬材料，使其在鍍膜部件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)成膜的方法。